Jensen Huang, el director general de Nvidia, está convencido de que China tendrá sus propios equipos de fotolitografía avanzados no más allá de 2030. Ha defendido esta idea hace tres días en la entrevista que le han hecho en The All-In Podcast, y se ha mostrado bastante vehemente al asegurar que este hito del mayor rival de EEUU «está a la vuelta de la esquina». Esta no es en absoluto la primera vez que Huang expresa una visión optimista acerca del desarrollo tecnológico chino, pero sus declaraciones no son descabelladas.
Para ponerlas en contexto podemos indagar tanto en el último logro importante que ha alcanzado China en el ámbito de las máquinas de litografía, como en los dos proyectos respaldados por el Estado que persiguen llevar a buen puerto el desarrollo de un equipo de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) capaz de producir a gran escala chips de 5 nm o menos. A finales del pasado mes de julio, The Information publicó un artículo en el que asegura que una empresa china ha comenzado a fabricar en serie sus propias máquinas de litografía de ultravioleta profundo (UVP) de inmersión.